在不少国家和地区，实用新型专利成为了创新者知识产权布局的重要组成部分，因为它比发明专利更快、更便宜，授权门槛也相对较低。但实用新型专利也长期伴随着争议，因为过低的授权门槛也可能带来低质量专利堆积、权利边界不清、市场交易成本上升等问题。有关实用新型专利的讨论本质上触及了一个制度设计的底层逻辑：知识产权制度究竟应该鼓励更多企业参与，还是更强调权利质量和技术含量？

为了解开这一矛盾，51黑料 企业管理系副教授、博士生导师何文龙，联合国际学者，共同指导博士研究生胡子泰同学，开展了一项深入且扎实的研究，重新审视全球实用新型专利制度，并于近期在国际创新管理领域顶级学术期刊Research Policy上获得发表。该研究提出的核心问题是，不同国家为什么会设计出宽松程度不同的实用新型专利制度？这种制度严格度如何影响企业和个人对实用新型专利的使用？实用新型专利在发展中经济体和发达经济体中，是否承担着不同功能？

该项研究特别区分了两个容易混淆的概念：制度“强度”和制度“严格度”。前者关注的是权利授予之后能带来多大保护，比如保护期限、保护范围、执行力度；后者关注的是权利授予之前有多难获得，比如新颖性要求、创造性要求，以及授权前是否进行实质审查。以往关于知识产权的研究更关注保护强度，而该研究则强调，入口门槛本身也是制度设计的关键变量。

该项研究构建了一个覆盖75个经济体、时间跨度从1980年到2020年的全球数据库。研究团队根据各国法律文本、专利局资料、WIPO数据库、政府文件以及专业机构资料，系统梳理了每个经济体实用新型专利制度的变化，并建立“实用新型制度严格度指数”（Utility Model Strictness Index），用于衡量一项创新成果要获得实用新型保护，需要跨过多高的制度门槛。该指数主要由三部分组成：新颖性标准、创造性标准和授权前审查严格程度。

研究发现，发展中经济体通常采用更宽松的实用新型制度，发达经济体则倾向于更严格的制度。这并不是制度先进与落后的简单差别，而是不同发展阶段下的政策取舍。发展中经济体的许多企业技术能力有限，创新更多表现为模仿、吸收和局部改进。较低门槛的实用新型专利制度，可以帮助这些企业以较低成本进入知识产权体系，学习如何把技术改进转化为知识产权。但在发达经济体，宽松制度的副作用更明显。成熟市场中专利网络密集，企业创新活动更复杂。如果大量技术含量不高、稳定性不足的实用新型专利涌入市场，反而会制造知识产权拥堵。企业推出新产品前，需要花更多资源做检索、谈许可、防诉讼，真正有价值的创新可能被低质量权利拖慢。因此，发达经济体更需要一定的制度筛选。

更有意思的是，制度严格度对实用新型专利申请量的影响并不相同。在发展中经济体，实用新型制度越严格，申请量越容易下降。因为如果申请变得更难、更贵、更慢，实用新型原本的优势就会被削弱。它本来是为资源有限的企业、个人发明者和后发企业提供低门槛保护，一旦门槛抬高，最需要它的人反而被挡在门外。而在发达经济体，关系则呈现倒U型。太宽松时，实用新型权利质量不足，企业对其商业价值和法律稳定性缺乏信心；太严格时，它又变得太像发明专利，失去快速、低成本的制度特色。真正有效的状态，是保持适度严格，既能过滤掉明显低质量的申请，又不至于让制度失去可及性。

本文的理论贡献在于，它把实用新型从专利制度的边缘位置重新带回创新研究的核心。过去的知识产权研究多围绕发明专利展开，也多关注权利保护强度。本文揭示，实用新型这样的“小专利”同样重要，而且制度入口的严格程度，会深刻影响企业是否使用它、如何使用它。文章还说明，知识产权制度的功能存在发展阶段差异。对新兴经济体来说，实用新型更像学习工具和能力积累入口；对发达经济体来说，它更像需要被精细调校的筛选机制。

对政策制定者而言，实用新型专利制度不能简单追求越宽松越好，也不能机械地认为越严格越高质量。发展中经济体如果过早提高门槛，可能削弱中小企业和本土企业的创新参与；发达经济体如果长期放任低门槛申请，则可能增加市场不确定性和交易成本。制度设计的关键，不是选择“宽”还是“严”，而是找到与本国产业能力、企业结构和创新阶段相匹配的制度设计。

对中国而言，这一点尤其重要。中国曾长期依靠实用新型专利激发企业知识产权意识，推动制造业企业把大量现场改进纳入保护范围。这个阶段有其历史价值。但随着中国从数量扩张转向高质量创新，实用新型专利制度也需要从“鼓励多申请”转向“鼓励有价值地申请”。企业不应把实用新型专利看成堆数量、拿资质、做装饰的工具，而应把它嵌入产品路线、研发节奏和竞争策略中。

创新并不总是来自重大突破。许多真正改变企业竞争力的进步，发生在车间、设备、模具、连接件和产品结构之中。实用新型专利制度的意义，正在于让这些微小但持续的改进被看见、被保护、被积累。好的知识产权制度，不只是奖励站在山顶的发明者，也要为正在半山坡攀登的企业，留下合适的台阶。

已发表文章：

Prud’homme, D., Hu, Z., He, W., & Lampert, C. M. (2026). Utility model patent regimes around the world and over time: Strictness, usage, and economic development. Research Policy, 55(8), 105517.